Seto 1.60 фотохромний об'єктив SHMC

1) Що таке спінове покриття?

Спінове покриття - це процедура, яка використовується для осадження рівномірних тонких плівок на плоскі субстрати. Зазвичай на центр підкладки наноситься невелика кількість покриття матеріалу, який або крутиться на низькій швидкості, або взагалі не крутиться. Потім підкладку обертають при швидкості до 10 000 об / хв для розподілу покриття матеріалу на відцентрову силу. Машина, що використовується для спінового покриття, називається спіновим покриттям або просто спінером.
Обертання продовжується, поки рідина обертається від краю підкладки, поки не буде досягнута бажана товщина плівки. Накладений розчинник зазвичай мінливий і одночасно випаровується. Чим вище кутова швидкість спінінг, тим тонша плівка. Товщина плівки також залежить від в'язкості та концентрації розчину та розчинника. [2] Піонером теоретичного аналізу спінового покриття було здійснено Emslie et al., І його продовжували багато наступних авторів (включаючи Wilson et al., [4], які вивчали швидкість поширення в спіновому покритті; та Danglad-Flores et al., [5], які знайшли універсальний опис для прогнозування товщини осадженої плівки).
Спінове покриття широко використовується при мікрофабриуванні функціональних оксидних шарів на скляних або монокристалічних субстратах за допомогою попередників золь-гелю, де його можна використовувати для створення рівномірних тонких плівок з товщиною нанорозмірних. [6] Він інтенсивно використовується у фотолітографії, для відкладення шарів фоторезистів товщиною 1 мікрометра. Фоторезист, як правило, крутяться на від 20 до 80 обертів в секунду протягом 30 - 60 секунд. Він також широко використовується для виготовлення плоских фотонних структур, виготовлених з полімерів.
Однією з переваг спін -покриття тонких плівок є рівномірність товщини плівки. Завдяки самодолегкому, товщина не змінюється більше 1%. Однак, крупне покриття товстіші плівки полімерів та фоторезистів можуть призвести до порівняно великих бісеру, планування яких має фізичні межі.